北京
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金融界11月28日消息，有投资者在互动平台向国林科技提问：美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积（ALD）技术完成！!公司沉积清洗设备是否可以用在GAA工艺上？
公司回答表示：公司薄膜沉积和臭氧清洗设备可以应用于GAA工艺，目前半导体清洗方面的业务占公司主营业务收入比重较小。
本文源自：金融界
作者：公告君
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