TEL：日本最大半导体设备制造商

　　ASML是TSMC的大供应商之一，也是EUV光刻机在世界上的唯一制造商。他们制造TSMC用来制造芯片的机器，但半导体生产的意义远不止光刻。

　　今天，想讲述另一家备受关注的价值数十亿美元的半导体设备供应商——东京电子有限公司（Tokyo Electron Limited）。他们是日本最大的半导体设备制造商，也是日本最有价值的公司之一，市值680亿美元。

　　东京电子：发展历程

　　对东京电子来说，1973年是一个重大的转折点。

　　1970年代经历了多次经济危机，1971年的美元冲击和1973年的石油危机。

　　在1973年的经济危机中，东京电子决定完全放弃消费电子产品进口业务。这是有风险的，因为消费电子进口部门占公司收入的60%。

　　但领导层却很有远见的认为半导体制造设备具有更高的附加值。

　　果然第二年，收入增长了13%，利润增长了97%。结果证实了这个困难的决定。1980年，该公司在东京证券交易所上市。日本的半导体工业在20世纪80年代达到了顶峰。

　　但随着上世纪90年代的到来，低成本的日本DRAM出口成为一个政治问题。

　　日本半导体行业的企业因国家经济政策而产生了大规模的产能过剩。然后他们把这些产能倾销到海外，引发了贸易争端。

　　美国半导体行业成功地通过游说对日本竞争对手施加限制。再加上日元升值，日本采取了撤退措施。东京电子公司的业务再次面临重大威胁。

　　1992年，日本半导体行业的下滑，世界其他地区的半导体行业却在上升。也有机会满足他们的需要。

　　因此，在整个20世纪90年代，东京电子将他们的海外直销业务扩展到美国、欧洲、台湾和韩国。他们在研发方面的持续投资创造了尖端产品，从而吸引了英特尔、三星和台积电等新客户。

　　现在他们的收入非常国际化。在2020财年，日本目前占它们总收入的不到15%。该公司的规模和重要性是如此之大，以至于当应用材料公司在2013年试图以90亿美元收购他们时，美国、欧盟和韩国的反垄断执法机构都提出了诉讼，要求阻止它。合并后的公司将控制整个超临界半导体生产设备行业25%以上的份额。这项合并最终在2015年被取消，令高层管理层失望。但由于该公司今天的价值超过650亿美元，我认为他们做得很好。

　　东京电子与阿斯麦不同，因为他们不制造像光刻步进机这样超级先进、超级尖端的机械。这里没有锡滴，也没有激光。

　　相反，TEL的产品横跨整个半导体制造链。他们的技术不仅可以帮助制造为你的设备供电的逻辑处理器芯片，还可以在这些设备的屏幕上制造平板显示器。

　　他们最关键的半导体生产业务线:光刻涂层/显像，沉积，干蚀刻和清洗。

　　截至2017年，TEL在这些线路上拥有强劲的市场份额。这些线路服务于半导体制造的“前端”的某些步骤。

　　TEL确实提供包装和检查机器，标签为“后端”的必要步骤，但我现在打算排除这些。前端的目标是把一个纯的、无图案的晶圆片变成一个有结构的晶圆片。然后把晶圆切成一个个的模具。

　　因此，一个结构单一的晶圆内部可能有数百甚至数千个晶圆。一个单一结构的晶圆有许多层。在晶圆厂内部，晶圆要经过很多次的开发步骤。每一步都要添加或修改这些层，直到最终设计满足客户的目标。TEL的产品促成了其中一些单独的步骤。这些步骤并不总是整齐有序地进行。有些在进入下一个步骤之前会重复很多次。这完全取决于设计。

　　CVD设备

　　东京电子CVD设备主要有两个系列，即Trias e+和TELINDY。在新建晶圆厂中，薄膜沉积设备作为晶圆制造的关键一环，其投资规模占晶圆制造设备总投资的25%左右。当前，全球薄膜沉积设备市场份额被应用材料、泛林半导体、东京电子等行业巨头所占据。

　　涂胶显影：涂胶+烘烤+显影

　　涂胶显影设备包括涂胶机、喷胶机、显影机，是光刻工序中与光刻机配套使用的设备，是集 成电路制造的核心设备。涂胶显影设备可以应用于集成电路制造前道晶圆加工领域，以及后 道先进封装领域，其中，应用于集成电路制造前道晶圆加工环节的前道涂胶显影设备更多， 市场份额占比更大。

　　涂胶显影设备主要由涂胶、显影、烘烤三大系统组成，通过圆片传递机械手，使圆片在各系 统之间传输和处理，完成圆片的光刻胶涂覆、固化、光刻、显影、坚膜的工艺过程。

　　早期或较低端集成电路工艺中，主要使用独立机台（Off-line），随着集成电路工艺的提升， 目前200mm及以上的生产线大多采用与光刻机联机的设备（In-line），与光刻机配合工作。

　　涂胶显影：25亿美金市场空间，东京电子垄断90%

　　据统计，全球前道涂胶显影设备销售额由2013年的14.07亿美元增长至2018年的23.26亿美 元，年复合增长率达10.58%，预计2023年市场规模约24.76亿美元。

　　全球涂胶显影设备被日本东京电子高度垄断，其全球市占率近90%；其余主要厂商还有日本 SCREEN、中国台湾亿力鑫、德国苏斯微、韩国CND等。

　　中国本土涂胶显影设备生产企业 主要为芯源微，在国内市场中的份额占比为4%左右。据统计，中国大区（含中国台湾地区） 2018年前道涂胶显影设备规模8.96亿美元，预计2023年将达到10.26亿美元。

　　清洁

　　在现代晶圆制造过程中，有30-40%的步骤涉及到某种形式的晶圆清洗。当然，这真的很重要。想法很简单:在上述步骤之后，你需要清除任何化学或颗粒杂质。否则，这些杂质将大大影响你的晶圆产量。对了，你必须在不留下任何损坏的情况下打扫。晶圆清洗有多种形式和变化。这不仅仅是一件事。例如，有光刻胶清洗，在蚀刻步骤完成后，取下光刻胶层。对于颗粒污染有一个清洁步骤，使用极强的酸去除颗粒。等等。TEL的清洁系统品牌是Cellesta，在我听起来像萨尔萨的品牌，这台机器每小时可以处理大约1000片晶圆。就像餐厅里的洗碗机一样，你放入的硅片越多越好。

　　结论

　　好了，这就是东京电子的业务线。

　　我希望这一节能帮助你更好地了解这家十亿美元公司的业务范围。当然是三星和英特尔。最近，ASML和EUV也开始频繁出现。找到关于他们的信息相当困难。但如果没有他们的贡献，整个行业将难以运转。当我阅读有关半导体制造的媒体和主流文章时，我往往会看到很多相同的名字。你可以看到台积电、三星和英特尔。

　　最近，ASML和EUV也开始频繁出现。TEL的历史恰恰证明了该行业的全球性。如果没有像东京电子这样的国际公司的系统，那些昂贵的EUV机器就没用了。你不能跳过步骤。所有这些都必须让最终产品发挥应有的作用。我一直对铸造厂如何让所有这些机器和谐地工作，每个月生产数千块华夫饼印象深刻。探索像TEL这样的公司所做的事情只会加深这种情绪。一个价值数百万美元的机器，就为了这个无人提及的小步骤。

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