光刻机属于高科技的产物，近期日媒称ASML公司推迟给我国的中芯国际供货，但随后ASML称，纯属日媒的挑拨离间，因为中芯国际的出口许可证过期，根据本国法律，其需要重新申请许可证，才能继续出口中国。对此网友也是舒了一口气，作为芯片制造的利器，光刻机属于各大高科技集成的产物，仅凭一国之力，是生产不出最先进的光刻机的，我国的光刻机目前水平如何呢？
目前国际上实力最强的光刻机生产厂商就是荷兰的ASML，该公司最先进的光刻机采用EUV光源，可实现7nm芯片制程的生产，该公司一年也只能生产20多台光刻机，价钱高达上亿美元，即便你有钱也未必能买到，因为ASML公司属于股份制，假如该联盟的成员可以享受先期购买，其它的国家就需要排队购买了。
作为世界上最大的芯片代工企业三星和台积电目前已经导入了EUV光刻机来实现7nm工艺的高端芯片的量产了，很多网友说，我们也可以购一台来进行代工啊！说起来简单，但事实上目前三星和台积电的芯片制作工艺已经经历了好几十年了，技术的积累不是几年就可以赶上的，有了光刻机未必就能生产处合格的产品。
我国目前有两大芯片生产厂家，也是光刻机的目标用户。一个是上海微电子，该公司主要从事半导体装备和高端智能装备的制造和销售，光刻设备是其主营业务，当然其光刻设备业务也在国内属于顶级水准了。国际光刻机水平是7nm，正在研发5nm，上海微电子的光刻设备起步较晚，目前可以使用的是90nm水平光刻机，以激光成像为主，虽说在国内属于领先，但与国际水平相差较大。
另一个就是中芯国际了，由于国内以前在半导体的使用上主要依赖于进口，所以目前我国的半导体设计和制造相当薄弱，特别是半导体工艺，很多网友说，麒麟芯片很先进啊，但麒麟芯片是华为设计的，具体的制作还是要依赖于台积电，华为只是设计图纸，真正制造还是要台积电来完成，所以说国内的半导体制造工艺水平不高。要想弯道超车还是比较难，毕竟需要很多技术的积累才行。
中芯国际目前的能量产的芯片最先进工艺是14nm，12nm也已经取得重大突破。不过于ASML的7nm工艺还是有很大的差距，所以中芯国际的芯片制造工艺要在进一步的话，还需要在工艺上提升，如果ASML得EUV光刻机不能按时交货的话，对于中芯国际在高端芯片的制造和规划上就会慢半拍，好在目前并没有ASML要推迟交货的消息，大家觉得国产芯片的制造工艺会迎头赶上吗？
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