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目前芯片工艺制程已经全面进入7nm，而且明年5nm也将到来。今年采用7nm工艺制程的产品逐渐覆盖手机SOC、CPU等产品，用户也真切的感受到了更先进工艺制程带来的优势。想要进一步提升制程工艺，光刻机升级必不可少。作为光刻机市场的绝对领导企业，ASML已经开始研发第二代EU光刻机了。
EU光刻机
第二代EU光刻机与第一代的区别主要在于，第二代EU光刻机采用了High NA透镜，该透镜在提升微缩分辨率、套准精度两方面起着重要作用，官方表示相比第一代EU光刻机在两项核心指标方面提升70%。
当然第二代EU光刻机的售价自然不菲，虽然目前ASML公司并没有透漏第二代EU光刻机的价格区间，但第一代EU光刻机的售价已经超过了1亿美元，第二代EU光刻机的售价自然会高一些，预计最终售价不会低于7亿人民币。
编辑点评：光刻机的精度越高，更有利于工艺制程进一步提升。目前虽然工艺制程方面已经可以发展到5nm，但后续想要再次提升，难度非常大。第二代EU光刻机的出现，势必会让2nm、甚至是1nm工艺制程来的更快。
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