北京
国家知识产权局信息显示，广州市世赞防伪技术开发有限公司申请一项名为“微纳立体矩阵防伪标识”的专利，公开号CN122842430A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了微纳立体矩阵防伪标识，该标识包括表面保护层、立体超线微结构层、荧光防伪丝线分布层、基材层和胶粘层，立体超线微结构层集成了线宽0.1‑0.3mm的立体超线、凸起深度30‑60m的立体字以及字高0.01‑0.02mm的微缩字加密结构，荧光防伪丝线分布层包含随机三维分布的荧光丝线，胶粘层设有破坏性留底结构，其制备方法包括数字稿设计、激光雕刻母版、定制荧光基材、热转印成型及后加工。本发明通过多特征立体矩阵融合，实现了从肉眼观察、触觉感知、放大镜读取到紫外灯验证的多层次、高安全性防伪，且具备防转移破坏功能，仿制难度极高，适用于高端商品的防伪保真。
天眼查资料显示，广州市世赞防伪技术开发有限公司，成立于2004年，位于广州市，是一家以从事印刷和记录媒介复制业为主的企业。企业注册资本1020万人民币。通过天眼查大数据分析，广州市世赞防伪技术开发有限公司参与招投标项目1次，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可10个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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