北京
美国或把限制扩大到深紫外光刻机
据TrendForce消息，美国可能推动对ASML深紫外（DUV）光刻机面向中国的销售与维护实施近乎全面的禁令。这一动作将超出目前已有的极紫外（EUV）限制，覆盖DUV系统，包括已经安装在中国晶圆厂里的设备。
现有出口管制已经禁止ASML向中国出售EUV光刻机，但DUV销售基本未受限制。如果新禁令落地，中国晶圆厂依赖的成熟制程DUV设备也会被纳入限制范围。
维护断供比禁售更关键
报道中的维护禁令尤其值得关注。中国现有ASML DUV设备是多年积累下来的产能，一旦切断维护和备件供应，这些设备会随着时间推移逐渐退化，相当于在没有新增出口禁令的情况下被逐步停用。
这种打法与美国此前限制华为获取先进芯片的方式相似。当时对维护和升级的切断，带来的打击并不亚于最初的销售禁令。
中国本土光刻机推进被视为催化剂
TrendForce分析认为，中国本土光刻机推进是此次动作的催化剂。北京一直在加速国产DUV和EUV研发，由国家支持的项目瞄准半导体制造设备自给自足。
美国此举意在抢先阻断中国晶圆厂对外部设备的依赖，迫使它们更早转向尚未在大规模生产中验证的国产替代方案。
范围和时间仍不明确
目前尚不清楚这项禁令的具体范围。TrendForce没有说明会覆盖哪些DUV型号，也没有明确禁令是否追溯适用于已安装设备，以及美国考虑的时间表。
报道也没有点名涉及的美国机构，或引用具体政策文件。可以确定的是，政策方向是收紧而非放松。
接下来关注正式政策信号
后续需要关注美国是否会发布正式政策公告或行政命令。ASML截至发稿时尚未就这一报道公开置评。
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