北京
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国家知识产权局信息显示，多佛泵和过程解决方案有限公司申请一项名为“高压气体密封”的专利，公开号CN122611230A，申请日期为2021年5月。
专利摘要显示，一种气体处理系统包括限定了用于处理气体的腔体（106）的容器（102）。所述容器包括用于以输入压力接纳工艺气体的工艺气体入口（108）和用于以输出压力排出工艺气体的工艺气体出口（110）。所述气体处理系统还包括：轴（122），所述轴（122）被联接到所述容器；以及逐级密封系统（114），所述逐级密封系统（114）包括沿着所述轴隔开的多个密封件（136）。所述轴被构造为向所述容器中的气体传递机械能或者从所述容器中的气体传递机械能。密封件的每个相邻对在其中间限定了对应的压力空间。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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