北京
国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“发光器件及其制备方法”的专利，公开号CN122602719A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请提供了一种发光器件及其制备方法，包括：基板、外延层、第一焊盘和第二焊盘，所述外延层位于所述基板上，所述外延层包括沿远离所述基板的方向叠置的第一半导体层和第二半导体层；所述外延层具有间隔排布的像素区和焊盘区，所述像素区的外延层和所述焊盘区的外延层的远离所述基板的表面均具有多个间隔排布的外延凸块，各所述外延凸块的第一半导体层相连，且各所述外延凸块的第二半导体层间隔；所述第一焊盘位于所述焊盘区，且与所述像素区的外延凸块的第一半导体层电性连接，所述第二焊盘位于所述像素区，且与所述像素区的外延凸块的第二半导体层电性连接。本申请能提升发光器件的像素密度，并优化发光器件的散热效果。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目54次，专利信息1088条，此外企业还拥有行政许可45个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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