北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光源中的气流再分配”的专利，公开号CN122603576A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，极紫外（EUV）系统包括：容器，用于产生辐射；反射镜；气流组件；以及排气口。当系统正在产生EUV辐射时，系统在容器内提供第一气流路径。当系统未产生EUV辐射时，系统在容器内提供第二气流路径。系统可以在数毫秒内在第一气流路径与第二气流路径之间切换。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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