北京
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国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“光学视窗及其制备方法”的专利，公开号CN122488348A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本申请提供一种光学视窗及其制备方法。光学视窗包括基材和位于基材表面的调光薄膜，调光薄膜包括异质层，异质层包括若干个沿第一方向排列的第一条带和若干个沿第二方向排列的第二条带，第一条带和第二条带的交汇处形成异质结，第一条带包括ITO纳米棒，第二条带包括多孔氧化铝。本申请利用该种技术方案，以拓宽可见光透过率的调控范围。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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