北京
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国家知识产权局信息显示，深圳光峰科技股份有限公司取得一项名为“涂覆设备”的专利，授权公告号CN224574010U，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本实用新型公开了涂覆设备，包括基座；工作台；第一涂覆模块与第二涂覆模块，二者分别用于形成第一胶层与第二胶层；驱动模块；第一涂覆模块的涂覆速度大于第二涂覆模块的涂覆速度，驱动模块驱动第二涂覆模块的定位精度高于驱动模块驱动第一涂覆模块的定位精度，和/或，第二涂覆模块的涂覆精度高于第一涂覆模块的涂覆精度；第二涂覆模块被配置为在第一涂覆模块向工件的表面涂覆第一胶层后，在第一胶层上涂覆第二胶层。通过第一涂覆模块可以快速形成厚度大致恒定的第一胶层，生产效率高；通过高精度的第二涂覆模块精细化涂覆，可以实现例如局部厚度补偿、局部增厚等功能。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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