上海
ViP是维信诺自主研发的无金属掩模版RGB自对位像素化技术，它通过光刻图形化方式定义OLED像素结构，彻底摆脱了FMM（精细金属掩模版）的物理束缚。
用光刻图形化替代 FMM，ViP 改变的不只是工艺路线和设备需求，也给材料体系打开了新的想象空间。
这一期【ViP 官方解答】，我们聚焦材料：ViP 需要一套全新的材料体系吗？又会给 OLED 材料开发带来哪些变化？
ViP对发光材料有什么影响？
FMM路线中，R/G/B子像素必须共用“共通层”，材料开发只能先找一种通用性极强的“主力”材料，再围绕它调整其他材料。许多在效率、寿命或成本上占优但无法适配共通层要求的材料，因此被挡在门外。
R/G/B共用层
ViP终结了这种限制。R/G/B三色子像素不再需要共用共通层，每种颜色都可拥有独立器件结构，且三色可并行开发。此前大量无法商用的OLED材料及更复杂的EL膜层堆叠，如今具备了重新评估的价值。相当于OLED的“食谱”变丰富了——细粮能吃，经过工艺调校的“粗粮”也有机会被消化吸收。
R/G/B独立设计
这里的“粗粮”并非低端材料，而是指适配空间更宽、调校路径更多。ViP不是让门槛消失，而是材料选择空间更大、适配路径更开放。
从工艺看，ViP通过隔离柱结构和光刻图形化，系统性移除了FMM路线中高精度对位带来的集中压力；从设备看，ViP面向微米级OLED像素结构定义，无需落入纳米级半导体光刻设备的约束体系；从材料看，ViP终结了R/G/B必须共用共通层的限制，让OLED的“食谱”更丰富，ViP可以用“粗粮”，“营养搭配更健康”。
ViP打开的，不只是OLED的性能提升空间，更是下一代OLED像素制造的新空间。
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