北京
国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司申请一项名为“光刻图案修正方法及设备”的专利，公开号CN122362750A，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本申请实施例提供一种光刻图案修正方法及设备所述光刻图案修正方法，包括：获取对原始光刻图案进行光学邻近效应校正后的校正光刻图案；基于所述校正光刻图案确定初始优化范围；至少对所述初始优化范围内的光刻图案进行光学邻近效应校正迭代，以得到优化光刻图案；对包括所述优化光刻图案的校正光刻图案进行检查，若符合预设要求，则结束修正。本申请实施例提供的技术方案可以避免对所述校正光刻图案进一步修正时对完整的校正光刻图案进行处理，以减小对所述校正光刻图案进一步修正时的计算量，极大的节约对原始光刻图案的修正时间。
天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目120次，财产线索方面有商标信息232条，专利信息15056条，此外企业还拥有行政许可484个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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