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国家知识产权局信息显示，苏州苏大维格科技集团股份有限公司取得一项名为“一种具有双面耦出结构的光波导”的专利，授权公告号CN224480585U，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种具有双面耦出结构的光波导。包括：波导基底、耦入单元、第一耦出单元和第二耦出单元，耦入单元和第一耦出单元位于波导基底的第一表面，第二耦出单元设置在与第一耦出单元相对的波导基底的第二表面，第二耦出单元为高反射效率的衍射结构。耦入单元被配置为将图像光线耦入至波导基底内，部分图像光线经所述第一耦出单元衍射出射，其余光线到达第二耦出单元时，发生反射式衍射和0级反射后经第一耦出单元衍射出射。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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