北京
国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司申请一项名为“反射装置、工艺腔室和半导体工艺设备”的专利，公开号CN122303820A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体工艺技术领域，尤其涉及一种反射装置、工艺腔室和半导体工艺设备，反射装置包括：第一反射器，设置在工件的下方，第一反射器上设有连续的第一反射面，且第一反射面至少部分为曲面；第二反射器，位于第一反射器的下方，且设有面向工件的第二反射面，第一反射面和第二反射面围合形成用于放置发光件的空间区域，且第一反射面面向发光件，第一反射面面向第二反射面。通过第一反射面将发光件发出的光线连续且均匀地反射至第二反射器上的第二反射面，第二反射面进一步将光线连续且均匀地反射至工件下表面，提升发光件所发出光线覆盖的均匀性，消除晶圆的表面存在的局部高温区域和局部冷区，从而改善晶圆沉积的质量。
天眼查资料显示，深圳市新凯来工业机器有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本108140万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市新凯来工业机器有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目18次，财产线索方面有商标信息23条，专利信息310条，此外企业还拥有行政许可15个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
