北京
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国家知识产权局信息显示，深圳清力技术有限公司;清华大学申请一项名为“边缘翘曲的二维材料岛及其制备方法”的专利，公开号CN122301194A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本申请实施例公开了边缘翘曲的二维材料岛及其制备方法，其中，在二维材料(如石墨)的上表面镀覆具有拉应力材质的第一材料膜，并在第一材料膜上方以部分覆盖的形式镀覆尺寸较小的第二材料膜；如此上下地覆盖两层材料膜，使得转移二维材料岛到基底的过程中，第一材料膜可释放应力以带动下方的二维材料层发生边缘翘曲，且由于上方的第二材料膜可阻碍下方材料的中心区域变形，进而可形成边缘翘曲但中心区域平整的二维材料岛，从而消减边缘对二维材料岛的摩擦力影响，提升二维材料岛的超滑性能。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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