北京
国家知识产权局信息显示，苏州动察新材料有限公司申请一项名为“一种高残余低爬升的光固化有机硅离型剂组合物及其制备方法和应用”的专利，公开号CN122302727A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明涉及一种高残余低爬升的光固化有机硅离型剂组合物及其制备方法和应用，包括以下组分：组分A：分子链两端各含有一个或两个(甲基)丙烯酰氧基团的线性聚二甲基硅氧烷；组分B：分子链端基为三甲基硅基，分子链侧基含量3‑5个(甲基)丙烯酰氧基团的聚二甲基硅氧烷；组分C：分子链端基为三甲基硅基，且分子结构含有至少一个T或Q结构并含有3‑5个(甲基)丙烯酰氧基团的聚二甲基硅氧烷；组分D：含有光固化不饱和双键的羧酸或含有光固化不饱和双键的磷酸酯增粘单体；组分E：光引发剂。本发明的高残余低爬升的光固化有机硅离型剂组合物，其所有成分均参与光固化反应，减少了惰性成分，不仅有效改善了离型力爬升，还显著提高了压敏胶的残余。
天眼查资料显示，苏州动察新材料有限公司，成立于2024年，位于苏州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本750万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州动察新材料有限公司参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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