北京
国家知识产权局信息显示，艾恩（山东）半导体科技有限公司申请一项名为“一种离子注入机动态校准束流大小的控制方法和系统”的专利，公开号CN122267039A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体离子注入技术领域，具体为一种离子注入机动态校准束流大小的控制方法和系统；本发明方法首先通过末端移动法拉第杯获取末端束流实际值与Recipe目标值的偏差，仅在误差超标时启动校准流程；然后，利用SetUp法拉第杯的高响应速度特性，仅需记录少量采样点即可快速拟合束流传输线性关系，并前馈式反推出SetUp杯目标值；最后，以SetUp杯作为实时反馈源进行动态供气流量调节，直至其读数稳定于目标值，再返回末端杯验证闭环，既能发挥了中段杯毫秒级响应的效率优势，又能保证末端注入束流的最终精度。
天眼查资料显示，艾恩（山东）半导体科技有限公司，成立于2023年，位于济南市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本7000万人民币。通过天眼查大数据分析，艾恩（山东）半导体科技有限公司参与招投标项目5次，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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