北京
国家知识产权局信息显示，优利德科技（中国）股份有限公司申请一项名为“RK3568双介质烧录方法及系统”的专利，公开号CN122261592A，申请日期为2026年3月。
专利摘要显示，本申请公开一种RK3568双介质烧录方法及系统，涉及芯片镜像烧录技术领域。该方法通过构建具有引导保留区和唯一系统分区的SD卡烧录介质，在引导保留区中存储preloader和U‑Boot，在系统分区中存储启动镜像、eMMC烧录镜像及FPGA固件；并通过修改RK3568第二阶段启动优先级，使目标设备插入SD卡上电后优先从SD卡加载U‑Boot并进入烧录系统。进入系统后，由shell脚本执行eMMC烧录，并调用SPI协议C程序执行FPGA Flash烧录；在烧录FPGA Flash时，通过控制FPGA处于复位状态，避免其对与RK3568共用的SPI总线产生干扰。烧录完成后，对eMMC和FPGA Flash进行回读及MD5校验。本方法能够在同一次启动流程中连续完成eMMC与FPGA Flash的烧录，无需依赖上位机，便于量产、维修和升级。
天眼查资料显示，优利德科技（中国）股份有限公司，成立于2003年，位于东莞市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本11176.7588万人民币。通过天眼查大数据分析，优利德科技（中国）股份有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目514次，财产线索方面有商标信息46条，专利信息846条，此外企业还拥有行政许可172个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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