北京
国家知识产权局信息显示，武汉普迪真空科技有限公司申请一项名为“一种气体循环利用的金刚石膜气相沉积设备”的专利，公开号CN122189605A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本发明公开了一种气体循环利用的金刚石膜气相沉积设备，属于气相沉积技术领域，其包括气相沉积设备主体，所述气相沉积设备主体上固定安装有气相沉积腔室，所述气相沉积设备主体上方一侧固定连接有固定板；通过运动的齿形带带动两个固定块沿导向槽对向移动，促使活动块从弧形槽一侧的横槽逐渐滑入至弧形槽内，过程中弧形槽槽壁能够推挤活动块，促使活动块带动活动台在固定块上移动，使得在两个活动台在水平靠近的同时发生竖向远离，完成两个外罩筒位置交替，进而通过两个外罩筒的工位交换，使工作人员清理更换过滤筒以及高分子滤芯的同时，另一组向气相沉积腔室移动的外罩筒能够同步开展气体过滤循环，缩短了停机维护时间，保障加工效率。
天眼查资料显示，武汉普迪真空科技有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉普迪真空科技有限公司参与招投标项目219次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息71条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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