芯碁微装取得激光干涉仪相关专利，激光干涉仪系统装调及多环节误差补偿

来源：新浪证券-红岸工作室

5月8日消息，国家知识产权局信息显示，合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“一种激光干涉仪系统的装调及误差补偿方法”的专利，授权公告号CN116989666B，授权公告日为2026年5月1日。申请公布号为CN116989666A，申请号为CN202310953839.6，申请公布日期为2026年5月1日，申请日期为2023年7月28日，发明人卞洪飞、蔡健、吴春晓、蔡潍、汪涛、李智、韦巍，专利代理机构北京景闻知识产权代理有限公司，专利代理师李亚洲，分类号G01B9/02055、G01B9/02056、G01B9/02061。

专利摘要显示，本发明公开了一种激光干涉仪系统的装调及误差补偿方法，包括：工件台组件、干涉仪组件和控制器，执行以下步骤：控制工件台组件和设于工件台组件上的测距仪调整工件台吸盘的旋转角及平面度；将标定板放置在工件台吸盘上，且根据光栅尺坐标与标定板坐标差补偿工件台组件的机械误差；根据光栅尺反馈控制工件台纵轴和横轴的移动，以对激光干涉仪组件光路准直；根据光栅尺的反馈控制工件台纵轴和横轴移动，通过干涉仪检测干涉仪组件的平面反射镜在工件台组件的安装状态，并调整平面镜的俯仰和偏摆角度；控制工件台光栅尺原点与干涉仪原点一致；将工件台位置反馈由光栅尺反馈切换为干涉仪，通过标定板补偿干涉仪组件的安装残余误差。

芯碁微装成立于2015年6月30日，于2021年4月1日在上海证券交易所上市，注册地址和办公地址均涉及安徽省合肥市。该公司是国内微纳直写光刻设备领域的佼佼者，以微纳直写光刻技术为核心，产品具备较高技术壁垒。

芯碁微装所属申万行业为机械设备-专用设备-其他专用设备，涉及光刻胶、光刻机、Chiplet概念等概念板块。其主要从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售及维保服务，产品功能覆盖微米到纳米的多领域光刻环节。

2025年，芯碁微装实现营业收入14.08亿元，在93家同行中排名31，而行业第一名科达制造为173.89亿元，第二名豪迈科技为110.78亿元，行业平均17亿元，中位数9.94亿元。主营业务构成中，PCB系列收入10.8亿元，占比76.69%；泛半导体系列2.33亿元，占比16.58%；租赁及其他8739.3万元，占比6.21%；其他(补充)738.1万元，占比0.52%。净利润方面，2025年达2.9亿元，行业排名12/93，行业第一名豪迈科技为23.95亿元，第二名科达制造为21.67亿元，行业平均1.23亿元，中位数4809.11万元。

合肥芯碁微电子装备股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1玻璃基板激光打标工作台发明专利实质审查的生效、公布CN202610219521.92026-02-24CN121848002A2026-04-14叶飞2直写式光刻机及扫描曝光方法发明专利公布CN202610146096.52026-02-02CN121900112A2026-04-21徐从浩、赵美云3一种改善PCB油墨色差的多次曝光偏移方法及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610107704.12026-01-27CN121763669A2026-03-31孟鑫瑞、贾威强4直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元发明专利实质审查的生效、公布CN202610093213.62026-01-23CN121763668A2026-03-31徐从浩、童诚、王振亚5一种用于印刷电路板PCB的检测方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610020506.12026-01-08CN121784849A2026-04-03章晋凡、刘鑫、沈古飞、焦官华6基于提前测距的动态追焦光学测量系统、方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202512001839.82025-12-29CN121741698A2026-03-27谢鹍、张润晨、石庆林7一种可折展的压紧机构及LDI设备实用新型授权CN202520797048.32025-04-24CN224005412U2026-03-17汪志全、梁旭8光学测距装置和激光直写曝光机发明专利实质审查的生效、公布CN202510416740.12025-04-03CN120293010A2025-07-11徐剑锋、穆璐、姜蔚然9激光加工装置和激光加工系统发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510309673.32025-03-17CN120095316A2025-06-06刘孟辉、赵尚州10用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机实用新型授权CN202520419485.12025-03-11CN224020147U2026-03-20葛星雨、朱会敏、曹桂林、卢小齐、孙文彪11吸附组件及具有其的曝光装置发明专利实质审查的生效、公布CN202510276930.82025-03-10CN119987158A2025-05-13叶飞、程刚、项宗齐、汪涛12吸附组件及具有其的曝光装置实用新型授权CN202520372061.42025-03-05CN223692643U2025-12-19于成信13LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利授权CN202510225750.72025-02-27CN119805889B2025-11-28赵祥宝、蔡志鸿14LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利授权CN202510224817.52025-02-27CN119805888B2026-04-10赵祥宝、郑超、朱远哲、高晓锋15一种抖动分板装置实用新型授权CN202520211748.X2025-02-11CN223792483U2026-01-13陆原、束义、刘汉云16应用于直写光刻机的纠偏对位方法及装置、介质和光刻机发明专利授权CN202510148769.62025-02-11CN119805879B2026-04-03王克、程建高17一种双台面曝光机实用新型授权CN202520171673.72025-01-25CN223796823U2026-01-13于成信18一种曝光面剂量修正系统实用新型授权CN202520171669.02025-01-25CN223796822U2026-01-13李志豪、董邦林、穆璐、宋照爱19一种插框自动收放板装置发明专利授权CN202510120189.62025-01-25CN119822052B2026-03-13焦官华、陆原、束义、刘汉云20一种插板夹持装置发明专利授权CN202510120188.12025-01-25CN119822051B2026-03-17陆原、焦官华、束义、刘汉云21运动曝光工作台、曝光系统和曝光的控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510110128.12025-01-23CN119644681A2025-03-18李辉22运动曝光工作台及具有其的曝光系统实用新型授权CN202520160598.42025-01-23CN223911162U2026-02-13李辉23提升UV激光钻孔加工工艺的激光钻孔设备发明专利实质审查的生效、公布CN202510057567.02025-01-14CN119794623A2025-04-11刘孟辉、赵尚州24基于偏转镜实现光束分束及调控的激光并行加工设备实用新型授权CN202520083435.02025-01-14CN223932816U2026-02-24刘孟辉25激光钻孔独立动态调控的多AOM级联设备实用新型授权CN202520083520.72025-01-14CN223932871U2026-02-24刘孟辉26激光二极管的散热装置、高功率半导体激光器及组装方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016572.72025-01-06CN119994629A2025-05-13刘亮、杨凯27一种半导体空间光激光器镜片的调试工装及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016571.22025-01-06CN120002560A2025-05-16刘亮、杨凯28激光器外壳及半导体空间光激光器实用新型授权CN202520025368.72025-01-06CN223797724U2026-01-13刘亮、金伟龙、杨凯29曝光装置实用新型授权CN202423309294.42024-12-31CN223566032U2025-11-18叶飞30应用于光头底板的散热机构及其曝光机实用新型授权CN202423314307.72024-12-31CN223712003U2025-12-23张文龙、梁旭31直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机发明专利实质审查的生效、公布CN202411904595.32024-12-23CN119556532A2025-03-04王超、梅文辉、赵美云、邵德洋32自动上下料装置实用新型授权CN202423178878.22024-12-23CN223572237U2025-11-21张亮、赵尚州、李辉、岳览33吸附总成及具有其的光刻装置发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411726109.32024-11-28CN119511647A2025-02-25侯庆伟、汪涛34提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202411720670.02024-11-28CN119292005B2025-10-10卞洪飞、张辉、叶加良、陈东35基于空间光调制的双波段激光图形化微纳制造装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411700772.62024-11-26CN119387805A2025-02-07张辉、卞洪飞、叶加良、陈东36夹取装置实用新型授权CN202422891408.42024-11-26CN223385416U2025-09-26李冬青、李香滨、焦官华、徐欣37一种真空吸附固定式晶圆载台实用新型授权CN202422718008.32024-11-06CN223598699U2025-11-25于成信38夹紧总成及具有其的光刻装置实用新型授权CN202422674996.62024-11-04CN223666547U2025-12-12王历先、梁旭、张文龙39一种能够快速更换过滤器的风机过滤装置实用新型授权CN202422675578.92024-11-01CN223425389U2025-10-10程强40曝光总成及具有其的光刻设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411543995.62024-10-31CN119126500A2024-12-13张浩为、刘孟辉、武林41一种用于LDI设备的气动遮光装置实用新型授权CN202422670377.X2024-10-31CN223401139U2025-09-30张文龙42一种用于DMD芯片散热的水冷系统实用新型授权CN202422670371.22024-10-31CN223598092U2025-11-25张文龙、梁旭、王历先43单台面LDI曝光机外观专利授权CN202430676628.82024-10-25CN309380230S2025-07-11王历先、项宗齐、梁旭44FPD边缘曝光打码设备外观专利授权CN202430676627.32024-10-25CN309385911S2025-07-15程强45高效单机双面曝光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411492573.02024-10-24CN119200348A2024-12-27曲鲁杰、程刚46高效单机双面曝光设备实用新型授权CN202422576617.X2024-10-24CN223217782U2025-08-12曲鲁杰、程刚47聚焦总成及具有其的光刻装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411486173.92024-10-23CN119126499A2024-12-13徐剑锋、戴晓霖、黄思航48标定总成及具有其的曝光装置实用新型授权CN202421971890.62024-08-13CN223260027U2025-08-22叶飞49激光加工设备外观专利授权CN202430502595.52024-08-08CN309288976S2025-05-13张亮50光刻靶标图像去模糊的方法及装置、去模糊模型和光刻机发明专利公布CN202411056926.22024-08-02CN118840287A2024-10-25冯浩川、郑超、王辰扬

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