江苏艾森半导体、艾森半导体（南通）申请聚对羟基苯乙烯相关专利

来源：新浪证券-红岸工作室

5月8日消息，国家知识产权局信息显示，江苏艾森半导体材料股份有限公司、艾森半导体材料（南通）有限公司申请一项名为“聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用”的专利。申请公布号为CN121949659A，申请号为CN202610107816.7，申请公布日期为2026年5月1日，申请日期为2026年1月27日，发明人吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威，专利代理机构北京超凡宏宇知识产权代理有限公司，专利代理师郭莲梅，分类号C08F212/14、C08F220/30、C08F220/18、G03F7/004。

专利摘要显示，本发明公开了聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用，涉及有机合成技术领域。本发明以将4‑乙酰氧基苯乙烯、甲基丙烯酸4‑羟基苯酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、1‑乙基环戊基甲基丙烯酸酯为单体，通过RAFT聚合得到了含有不同HADMA比例的P（HSt‑co‑HADMA）共聚物。该共聚物通过引入大体积侧基不仅有效提高了PHSt的玻璃化转变温度，改善了后续酸扩散的加工窗口，还有效提高了其成膜性。随着HADMA含量的增加，薄膜开裂情况得以改善，表面粗糙度降低。

艾森股份于2010年3月26日成立，2023年12月6日在上海证券交易所上市，注册地与办公地均位于江苏省。该公司是国内电子化学品领域的佼佼者，专注电子化学品研发、生产与销售，产品技术优势显著，极具投资价值。

艾森股份主要从事电子化学品的研发、生产和销售业务，所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料，涉及光刻胶、光刻机、专精特新等概念板块。

2025年，艾森股份营业收入5.93亿元，在行业26家公司中排名19，远低于第一名有研新材的95.42亿元和第二名雅克科技的86.11亿元，行业平均数为19.89亿元，中位数为11.14亿元。其主营业务中，电镀液及配套试剂营收2.88亿元，占比48.55%；电镀配套材料1.48亿元，占比24.99%；光刻胶及配套试剂1.36亿元，占比22.93%；其他(补充)1869.6万元，占比3.15%；其他电子化学品214.48万元，占比0.36%。净利润方面，2025年为5163.46万元，行业排名16/26，第一名雅克科技达10.3亿元，第二名江丰电子为4.14亿元，行业平均数为3265.85万元，中位数为8178.71万元。

江苏艾森半导体材料股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用发明专利公布CN202610107816.72026-01-27CN121949659A2026-05-01吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威2正性化学放大光刻胶组合物、微图形结构及制备方法发明专利公布CN202610068237.62026-01-19CN121657366A2026-03-13张威、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、王玉龙3负性感光树脂组合物、微结构、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511829933.62025-12-05CN121454866A2026-02-03张威、张兵、向文胜、赵建龙、刘铖铠、安杨翔4电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511770435.92025-11-28CN121321130A2026-01-13陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟5正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅6一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒7一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳8可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞9一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙10近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞11一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元12基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威13一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟14化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健15用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞16一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙17降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌18感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩19感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广20一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健21一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广22感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮23负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙24光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟25显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜26锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙27一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙28单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙29一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利授权CN202410505028.42024-04-25CN118325389B2026-03-24王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙30一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙31不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙32IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜33一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜34一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋35可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广36一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙37一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋38硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙39一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟40自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广41一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙42半导体被动元件封装用油墨及其制备方法、器件及设备发明专利授权、公布CN202310910550.62023-07-24CN116751479B2025-09-26王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙43感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310402271.92023-04-14CN116414000B2024-12-20刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广44具有低温交联和低弹性模量的感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403373.22023-04-14CN116430673B2025-02-07刘斌、向文胜、刘壮、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广45感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403361.X2023-04-14CN116609999B2025-02-07刘斌、向文胜、毛瑞、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广46感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403034.42023-04-14CN116414001B2025-02-18刘斌、向文胜、马广元、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广47感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403043.32023-04-14CN116661243B2025-02-25刘斌、向文胜、洪勇波、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广48感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211663749.52022-12-23CN115826360B2023-09-12刘斌、向文胜、刘壮、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广49负性感光性聚酰亚胺组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202211657771.92022-12-22CN115840335A2023-03-24刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、鲍杰50一种用于先进封装负性厚膜光刻胶发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211411263.22022-11-11CN115793396B2025-02-11卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙

天眼查数据显示，艾森半导体材料（南通）有限公司成立日期2017年3月8日，法定代表人沈鑫，所属行业为化学原料和化学制品制造业，企业规模为中型，注册资本20000万人民币，实缴资本10000万人民币，注册地址为江苏省南通市开发区老洪港管理委员会通达路86-1号。艾森半导体材料（南通）有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息57条，拥有行政许可10个。

艾森半导体材料（南通）有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1聚对羟基苯乙烯的制备方法、聚对羟基苯乙烯及应用发明专利公布CN202610107816.72026-01-27CN121949659A2026-05-01吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威2正性化学放大光刻胶组合物、微图形结构及制备方法发明专利公布CN202610068237.62026-01-19CN121657366A2026-03-13张威、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、王玉龙3负性感光树脂组合物、微结构、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511829933.62025-12-05CN121454866A2026-02-03张威、张兵、向文胜、赵建龙、刘铖铠、安杨翔4电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511770435.92025-11-28CN121321130A2026-01-13陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟5正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅6一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒7一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳8可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞9一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙10近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞11一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元12基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威13一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟14化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健15用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞16一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙17降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌18感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩19感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广20一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健21一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广22感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮23负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙24光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟25显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜26锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙27一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙28单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙29一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利授权CN202410505028.42024-04-25CN118325389B2026-03-24王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙30一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙31不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙32IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜33一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜34一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋35可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广36一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙37一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋38硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙39一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟40自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广41一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙42半导体被动元件封装用油墨及其制备方法、器件及设备发明专利授权、公布CN202310910550.62023-07-24CN116751479B2025-09-26王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙43一种低铝腐蚀显影液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310730678.42023-06-20CN116661263A2023-08-29赵建龙、邱柱、杜冰、顾后荻、徐栋、丁保安、张兵、向文胜44一种蚀刻液组合物及其应用发明专利授权、公布CN202310291744.22023-03-23CN116288351B2025-10-21蔡洁、胡青华、王元元、张兵、向文胜、赵建龙、杜冰、贾雪、桂立苏45蚀刻液组合物、制备方法及蚀刻方法发明专利实质审查的生效、公布CN202310244466.52023-03-14CN116162934A2023-05-26王元元、胡青华、蔡洁、张兵、向文胜、赵建龙、杜冰46一种光敏性树脂组合物及其应用发明专利授权CN202310230128.62023-03-10CN116375928B2025-11-28张威、向文胜、张兵、杜冰、贾雪47高速光亮电镀添加剂及电镀液发明专利授权、公布CN202310111768.52023-02-14CN115948776B2025-02-07陈春、张兵、向文胜、赵建龙48一种丙烯酸树脂、光刻胶及其制备方法与应用发明专利授权、公布CN202211548780.42022-12-05CN115873177B2025-01-28卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙49一种高附着力且弯折性好的UV喷印油墨发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202110979943.32021-08-25CN113652118B2023-06-30高建鑫、黄时雨、张燕红、张兵、向文胜、赵建龙50一种钛钨蚀刻液及其制备方法和应用发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202110203281.02021-02-23CN112981405B2022-11-15顾群艳、梁豹、杜冰、邱柱、赵建龙、张兵、向文胜、朱坤

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