北京
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国家知识产权局信息显示，VAT控股公司申请一项名为“阀和腔室匹配”的专利，公开号CN121865871A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及阀和腔室匹配。用于提供用于控制辅真空阀的辅控制参数的方法，其包括以下步骤：通过以下步骤生成用于控制主真空阀的主控制参数：提供目标处理信息，提供包括主真空阀的第一处理腔室，以控制流入或流出第一处理腔室的流体流量；运行参考处理循环，其中主真空阀的阀闭合件的阀位置根据目标处理信息而改变，导出与第一处理腔室相关的第一处理信息，并基于将第一处理信息与目标处理信息进行比较来调整阀位置，以及至少基于导出的第一处理信息和相关的阀位置来导出用于主真空阀的主控制参数；提供包括辅真空阀的第二处理腔室，以控制流入或流出第二处理腔室的流体流量；以及基于主控制参数来控制辅真空阀，主控制参数被提供作为辅控制参数。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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