北京
国家知识产权局信息显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请一项名为“一种调整双面抛光设备参数的方法、装置和介质”的专利，公开号CN121832444A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本公开提供了一种调整双面抛光设备参数的方法、装置和介质；该方法包括：从双面抛光设备接收当前设备参数，以及从检测设备接收当前品质参数；根据当前设备参数生成当前工艺特征；将当前工艺特征以及当前品质参数输入至已训练完毕的机器学习模型，以由机器学习模型输出原始参数调整量；在双面抛光设备能力的约束条件下，将原始参数调整量进行优化以生成当前设备参数的调整量。
天眼查资料显示，西安奕斯伟材料科技股份有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本403780万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟材料科技股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目13次，专利信息1545条，此外企业还拥有行政许可24个。
西安奕斯伟硅片技术有限公司，成立于2018年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本660000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安奕斯伟硅片技术有限公司参与招投标项目379次，专利信息1051条，此外企业还拥有行政许可54个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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