第二个“沃尔沃法案”诞生！这回标准是半导体，荷兰是最大背锅侠

时隔1年之后，美国又搞出第二个“沃尔夫方案”，这回成半导体

此次提交的法案名为所谓“硬件技术控制多边协调法案”（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware，简称“MATCH法案”）。

不过我更喜欢称呼他为“半导体沃尔夫法案”，就是美国两党国会议员再度提出一项试图打击对华芯片制造工具出口的立法，尤其针对来自包括荷兰和日本在内盟友国家的相关出口。

无论是阿斯麦、东京电子，还是应用材料、科林研发以及科磊，它们的设备产品是制造从人工智能（AI）芯片到各类电子产品所用简单元件的关键工具。多年来，美国一直与日本、荷兰联手，试图阻止中国获取最尖端的设备，在AI芯片生产领域对华“卡脖子”。

这回不光是自己对中国实施各种限制，盟友都被算进去了。

想起了当初沃尔夫方案，当时提出这个方案议员现在还活着，恭喜他有生之年见证到中国航天事业发展，可喜可贺

美国当初为了限制中国在航天事业发展，在2011年弄得那个沃尔夫法案。

里头的内容有

禁止中美两国之间任何与NASA有关或由白宫科技政策办公室协调的联合科研活动

禁止美国航天局所有设施接待“中国官方访问者”。

搞得这些破东西就是为了限制中国在航天领域发展，可是这位做梦也没有想到，中国航天事业没有被限制，反而进一步完成自力更生。

我们有了空间站，自家的，而且宇航员定期去空间站！

只是没有想到美国人到现在还没有吸取教训，继续搞事情

为了进一步在科技领域遏制打压中国，美国又开始搞事情

彭博社4月3日援引知情人士透露，美国国会参议院预计还将于本月晚些时候推出该法案的配套版本。

此举的目标是让这些外国公司也面临与其美国竞争对手目前所受的同等、甚至更为严格的限制。具体措施包括禁止这些公司的工程师在中国境内的特定设施内从事设备维护和维修工作——而美国人员目前已被禁止从事此类工作。

其中最重要的措施之一，将是对阿斯麦所有浸润式深紫外光刻机（浸润式DUV）实施限制，此举是在现有管制基础上的进一步升级。现有的管制已禁止向中国出口最尖端的极紫外光刻机（EUV），荷兰政府此前也已针对部分DUV设备实施了管制措施。

不知道这是针对中国，还是针对荷兰，以及日本，后续服务没有了，谁还会买人家东西

对于相关消息，阿斯麦方面拒绝就此发表评论。荷兰贸易部的一名发言人则表示：“对于其他国家立法者所提出的立法草案，我们不便发表评论。”

该法案在众议院的主要推动者、众议员迈克尔·鲍姆加特纳（Michael Baumgartner）在一份声明中宣称，该法案旨在“确保美国及其盟友步调一致，共同弥补现存的漏洞，捍卫我们在技术领域的领先优势，并保障那些支撑着从武器系统到关键基础设施等一切运作的供应链的安全。”

参议院配套法案的主要推动者、参议员皮特·里基茨（Pete Ricketts）则配合炒作称，这项立法将有助于为美国企业营造一个所谓“公平的竞争环境”。

为了保证自己在科研领域的领先地位，美国现在连脸皮都不要了。不是自己想办法搞，而是想办法拖垮中国，不让中国接触到先进的科技产品

彭博社认为，上述措施所实施的管制力度，已超越了针对中国整体半导体产业所实施的常规管制。在某些特定案例中，美方此前已针对美国企业向相关设施供货的行为实施了更为严厉的限制措施，而此次提出的法案将强制要求美国的盟国政府也采取同等力度的管制措施。

依照过去经验，美国越要对中国搞这种限制，反而会激发起中国的自主研发的决心！虽然当前困难存在，但是反而会更加促成中国自力更生。

如果中国一旦在半导体领域取得极大突破，特别是光刻机方面，那么荷兰阿斯麦这家就是麻烦了！就会丢掉中国偌大市场，荷兰再度成为背锅侠