一场决定国运的科技战争！

近日，日本光刻机龙头尼康发布了一份自其1917年创立以来最惨烈的亏损公告：

预计2025财年亏损额将达到850亿日元，约等于36.7亿人民币。

要知道，1980-1990年代，尼康可是全球光刻机行业的绝对霸主。

但在过去半年，这个曾经的霸主仅仅卖出了9台设备，还全是落后的成熟制程老款机型，映衬着日本国运的衰败。

与之形成对比的是，荷兰ASML在2025年狂卖了327台光刻机。

售价2亿美元以上的高端EUV设备就出货了48台，牢牢掌控着全球高端市场，市值高达1300亿美元。

过去10年（2016-2026），ASML的股价从50美元涨到了1500美元，涨幅高达30倍。

短短二十多年，这场全球光刻机行业的惊天逆转背后，是日本和欧美科技产业的一场国运级的博弈。

而到如今，中国这股后浪也在悄悄发力了。

据产业链信息，2025年上海微电子累计交付的28nm浸没式DUV光刻机已有20余台。

2026年1月17日，上海微电子更在长三角半导体产业峰会上透露，今年的DUV光刻机产能将有望扩大到200台。

这将是中国国运史上一次里程碑式的跨越，让我们期待着未来最终站上那浪潮之巅。

一、尼康的作死之路。

很多人不知道，如今濒临绝境的尼康，曾经是光刻机领域的王者。

上世纪70年代，尼康依托相机镜头的顶尖光学技术，杀入半导体光刻设备市场，踩中了全球半导体产业的风口，一路高歌猛进。

在80到90年代，尼康迎来了黄金时代。

它推出的193nm干式光刻机，凭借顶尖的分辨率和稳定性，横扫全球市场，1990年代中期，尼康全球市场份额一度突破50%。

那时候，它的竞争对手佳能也享有着40%的份额，两家日本企业联手瓜分了全球光刻机90%的市场，形成“日企双雄”垄断的格局。

彼时，美国光刻机鼻祖GCA被逼到了破产，而ASML只是欧洲的一个小厂，市场份额不足5%，存在感极弱。

作为顶流，尼康是芯片巨头们争相追捧的对象。

英特尔、AMD、IBM等美国大厂，为了拿到尼康光刻机的供货权，专门派团队常驻尼康，甚至旺季的时候，CEO们还得亲自跑到尼康工厂，预付全款蹲点抢名额。

尼康为英特尔定制的设备，是其CPU制程能在1990年代始终领先AMD的关键。

这也是那个年代，日本“技术立国”的象征。

可谁能料到呢？

进入21世纪后，仅仅五年时间，尼康就被ASML超越了，从此一路滑落到谷底。

而这一切的溃败，都源于它接二连三的致命失误，最终把自己逼进了死胡同。

第一个致命失误。

2002年，是尼康命运的转折点。

当时，193nm干式光刻机遇到技术瓶颈，下一代157nm光源研发举步维艰。

台积电专家林本坚提出了一个颠覆性想法：在镜头和晶圆之间加水，利用水的折射率缩短等效波长，从而突破制程限制。

这就是改变半导体历史的浸没式光刻技术。

林本坚带着这个天才构想，第一时间找到尼康，希望能合作研发。

可彼时的尼康，正沉浸在干式光刻技术的先进与自我陶醉中，对他的方案并未重视。

高管们在会议上当场质疑：

“水污染了镜头，谁来负责？气泡如果导致了设备报废，谁来承担？”

当然，也不是所有高管都这么傲慢。

但背后更深层的原因，是尼康已经在157nm干式路线上砸了数亿美元研发。

如果贸然转型浸没式技术，意味着前期的所有投入全部要打水漂，这种强烈的路径依赖，让尼康拒绝了创新之路。

正所谓，光脚的不怕穿鞋的。

当时夹缝中求生存的ASML，因为急需破局机会，反而愿意all in这条全新的技术路线。

ASML的技术主管马丁·范登布林克力排众议，大力推动和台积电联手研发，终于在2004年推出了全球首台浸没式光刻机。

这款产品凭借更高精度、更低成本，一下子就轰动了市场。

一年之后的2005年，ASML的份额大幅飙升至53.3%，超越了尼康的31.3%，跃居光刻机行业的新龙头。

到2006年，ASML市占率更是突破60%，而尼康进一步下滑至24.5%。

两者的差距拉开至2.5倍，格局彻底逆转。

第二个致命失误。

这时候的尼康，技术底蕴还在，正所谓瘦死的骆驼比马大，想要扳回来还是有机会的。

尼康决定押注下一代EUV极紫外光刻技术，想凭借此重返巅峰。

日本政府也意识到，这是一场“国运之战”。

于是积极牵头，集结了尼康、佳能、东京电子等半导体设备龙头，一起投入数百亿日元研发，试图重现昔日的技术辉煌。

可此时的光刻机行业，技术和生态已经日趋复杂。

一款高端光刻机往往涉及10万个零部件，精密度要求极高，且下游客户生态也变得更复杂了，韩国的三星、台湾的台积电等巨头在高速发展。

2012年，精明的ASML与英特尔、三星、台积电三大芯片巨头达成协议，邀请他们共同入股ASML，结成命运共同体。

根据协议，三巨头将为ASML提供巨额研发费用，以获得未来EUV光刻机的优先订单+潜在的投资收益。

接下来，ASML又在全球挖掘上游供应链，联合了德国蔡司、美国Cymer等一批横跨欧美各国的细分龙头，组建了全球最强大的EUV研发联盟。

这就相当于是：欧美韩台最顶尖研发资源和产业生态的组合VS日本一国的研发力量。

结果可想而知。

2017年，ASML率先量产交付首台 EUV 光刻机，成为支撑 7nm 及以下先进制程的核心设备，领先优势持续扩大。

而尼康，截止2018年，在EUV项目上砸了超千亿日元之后，终于造出了一台原型机。

但由于技术指标落后，没有获得一个意向订单，最终只能无奈宣布终止EUV商业化开发，输掉了翻身的最后希望。

第三个致命失误。

尼康在市场策略上也蠢得离谱。

在2010年代，它就暴露了过度依赖英特尔这个单一大客户的风险。

随着2024年英特尔巨亏，大幅削减资本开支，尼康订单直接跌到个位数。

其实在2020年前后，尼康还是有过一次重生机会的。

在2020-2024年，其光刻机对华销量占比一度超过40%，由于大陆晶圆厂扩产，需求极大，本是尼康扭转业绩的绝佳机会。

可随着美国推动半导体设备出口管制，尼康选择紧跟美国指挥棒，主动放弃中国市场，这个机会也就成了梦幻泡影。

2025年，随着中国市场丢失，英特尔停止芯片制造投入，尼康的光刻机业务大幅萎缩。

2025年9月，尼康关闭运营了58年的横滨工厂，曾经的光刻机霸主，彻底跌落神坛。

二、ASML的登顶之路。

很多人觉得ASML赢在EUV技术的强大。

可实际上，EUV只是结果，真正的核心，是它从一开始就选择了和尼康相反的道路。

尼康思想保守，而ASML积极拥抱创新；

尼康体制僵化，上游只绑定日本供应商，下游只绑定一个大客户英特尔；

而ASML走开放的全球协作之路，上游在全球挖掘顶尖供应商，下游联合尽可能多的客户，用资本入股的方式结成利益共同体，将朋友搞得尽可能的多。

在浸没式光刻技术的路线选择上，ASML的创新意识体现的淋漓尽致；

在EUV光刻机的研发上，它整合全球、各行业供应链和生态的眼光，也是世界顶尖。

这种创新意识和整合全球资源所构建起来的闭环生态，才是它最强大的护城河。

如今，ASML垄断100%的EUV市场，高端DUV市场份额超90%，全球的先进制程芯片全都离不开ASML的设备。

它成为了芯片行业的“卡脖子”王者，享受着一年百亿美元级别的超额利润。

而ASML并没有躺在功劳簿上吃老本，仍在积极布局下一个战场。

随着摩尔定律逼近极限，先进封装成为芯片性能提升的关键路径，ASML将之视为下一个十年的重大机会。

2025年10月，ASML推出首款先进封装光刻机TWINSCAN XT:260，套刻精度和生产效率大幅改进，迅速获得台积电、三星等核心客户的订单，正式宣告进入先进封装市场。

如今，它还在投入研发混合键合机台，把光刻领域的精密控制技术，复制到后道封装环节，试图成为一个覆盖全流程的半导体设备平台型公司。

三、佳能的求生之路。

和尼康并称日本“光刻机双雄”的佳能，在这20年里，没有和ASML在高端市场硬刚。

而是选择了一条差异化的竞争之路，逐渐找到了自己的新市场。

这份清醒，可比尼康高明太多了。

在2000-2010年代，佳能和尼康一样，也错失了浸没式和EUV时代，一度迷茫。

但它很快就端正态度，清楚地知道在波长竞赛上，永远无法追上ASML。

所以佳能果断放弃了高端市场，推进两个重要战略。

第一，深耕成熟制程基本盘。

专注i-line、KrF等中低端光刻机，强化性价比，在二三线晶圆厂、功率器件、传感器等领域站稳脚跟，收获了稳定的客户和利润。

第二，押注纳米压印（NIL）技术。

纳米压印原理和光学光刻完全不同，就像盖章一样，把模板图案直接压印在晶圆上。

理论分辨率可媲美EUV，成本却只有EUV的十分之一，能耗降低九成以上，有可能是颠覆EUV的重要技术方向。

2023年，佳能推出纳米压印系统，宣称能生产5nm芯片，未来可下探至2nm。

目前，SK海力士已经引进用于闪存生产。

虽然这项技术目前还面临模板寿命短、缺陷控制难等问题，但佳能没有放弃，持续研发突破，2026年又推出晶圆平坦化技术。

随着技术不断迭代，缺陷逐步被完善，佳能的市场前景又变得明亮起来了。

佳能的生存之道，给了所有二线企业一个重要启示：

当主流赛道被巨头垄断时，没必要正面硬刚，更好的方式是找准差异化赛道，深耕细分领域，同样能活下来。

活下来就有希望，不断研发新技术，说不定哪天就有可能迎来弯道超车的机会。

知进退、懂取舍，是企业基业长青的关键。

四、中国光刻机的突围之路。

1，上海微电子

尼康陨落了，不代表ASML就可以在高端市场上高枕无忧。

来自中国的后浪，正在悄悄实现研发突破。

其中一个代表是上海微电子。

上海微电子，2002年在上海张江成立，一出生就肩负着攻克国产光刻机的使命。

但他也没有盲目跟风追高端。

在当时西方技术封锁、零经验起步的情况下，上海微电子选择了“先易后难、循序渐进”的现实战略。

先从低端的封装光刻入手，逐步向显示光刻、前道光刻机突破。

2009年，上海微电子首台封装光刻机交付，打破国外垄断；

2016年，国内首台前道扫描光刻机交付，正式进入晶圆制造生产线。

2018年，90nm前道光刻机通过验收，实现国产高端前道光刻机零的突破。

这20年，他一步步低调发展，积累人才，并终于在2025年迎来爆发之年。

第一，浸没式DUV光刻机进入量产阶段。

2026年1月17日，在长三角半导体产业峰会上，上海微电子公开宣布：

SSA800系列 28nm浸没式DUV光刻机已交付中芯国际，进入批量量产状态。

目前产线良率已超90%，单次曝光28nm，多重曝光可实现14和10nm，打破了国外在中高端DUV光刻机的垄断。

今年的DUV光刻机产能，将从去年的20余台扩大到50-200台。

第二，完成EUV原理验证。

上海微电子于2025年9月24日在第25届中国国际工业博览会首次公开展示了极紫外（EUV）两镜投影微场曝光装置。

这是一台EUV原理验证机，标志着国产EUV从原理研究进入工程样机概念验证阶段。

根据展示装置的核心参数，波长13.5nm，分辨率接近7nm，验证了EUV光路、反射成像、真空环境的可行性技术。

它最大的亮点是采用两镜反射式投影系统，跟ASML的多镜方案是不同的技术路线。

根据9月10日公开的专利《极紫外辐射发生装置及光刻设备（CN202310226636.7）》，这个方案最大的特点是能实现带电粒子约束+氢自由基净化，减少镜组污染、延长寿命。

据今年1月17日的长三角半导体产业峰会上，上海微电子披露的信息：

基于LDP（激光诱导放电等离子体）路线的EUV原型机Hyperion-1已进入试产阶段，预计2026年第三季度完成量产验证。

第三，先进封装布局。

跟ASML一样，上海微电子也在积极推进先进封装设备的研发布局。

去年，上海微电子分拆了芯上微装（AMIES），专注先进封装光刻机的研发。

今年1月，公司完成新一轮融资，估值280亿元，目标推进独立IPO。

第四，供应链与生态培养。

作为光刻机国产替代的代表，上海微电子的产品据业内估计比进口同类设备低40%左右，性价比突出，且交付周期更短。

上海微电子的高端光刻机量产，也将带动一批国产供应链企业的成长。

比如南大光电（ArF光刻胶）、奥普光电/茂莱光学（光学镜头）、华卓精科（双工件台）。

上海微电子这20多年取得的成就，跟他自身的努力和时代的机遇密不可分。

从自身来看，当然是先易后难的现实战略，一步步不断向上突破，不盲目追求高端。

在某种程度上，这跟佳能是有相似之处的。

但更重要的，是时代的机遇。

这几年，上海微电子之所以取得了更快的发展，跟国家大战略紧密相关。

从2020年开始，集成电路大基金加大资金注入，国家牵头中科院、复旦、交大等科研机构集体攻关，并统筹中芯、HW等下游企业反向投资，形成“产线即实验室”，边用边改、快速迭代等方法，才最终实现5年量产DUV，7年预计可量产EUV的目标。

当年，尼康的举国体制之所以失败，是因为日本单一市场的规模太小了。

拿不到海外市场的客户，就意味着将陷入加拉帕戈斯化的孤岛效应。

但中国不一样。

中国目前的工业规模世界第一，市场极大，研发工程师之多也是举世罕见的。

这注定了在这场国运之战中，上海微电子的路要比尼康容易走的多。

2，芯碁微装

其实在中国光刻机市场上，上海微电子不是唯一一个企业。

在其他细分领域，还有一些后起之秀。

比如这家A股企业：芯碁微装。

2015年，芯碁微装在合肥成立，先从PCB激光直写设备切入，快速占领国内市场，很快就拿到了60%的市场份额。

随后，公司逐步向泛半导体领域拓展，2021年登陆科创板，成为“直写光刻第一股”；

2022年，公司推出晶圆级封装直写设备，正式切入先进封装赛道，精准卡位AI芯片、Chiplet技术的核心环节。

2025年，芯碁微装业绩爆发，营收14.08亿元，同比增长47.61%，净利2.89亿元，同比增长80.42%。

主要原因是AI浪潮之下，PCB直写光刻设备迎来大爆发，全球十大PCB龙头企业中的7家成为其重要客户。

另外，公司的直写光刻设备打入先进封装从面板到晶圆的各环节，开始收获订单。

根据机构信息，2025年公司的光刻设备已进入长电、通富的国产GPU、AI芯片先进封装产线。

2025年，公司先进封装业务设备订单占比16.58%，预计2026年将大幅提升至35%，成为第二增长曲线。

公司规模虽小，但发展迅猛，黑马成色十足。

主要原因也是选择了差异化赛道，且一出生就站在了中国半导体产业腾飞、AI需求爆发的超级风口上。

我们复盘全球光刻行业三十年的变迁，从尼康陨落、ASML称霸、佳能偏安，再到中国企业的集体崛起。

可以发现，科技行业没有永恒的王者。

只有持续创新、走差异化之路、善于整合资源、顺应时代的企业，才能站上浪潮之巅。

而中国光刻机企业最大的幸运是——

他们拥有当今世界最大工业国的市场、人才和资金支持，再加上西方封锁的推动力，天然就站在了风口上。

只要企业保持清醒，在成熟制程、先进制程、先进封装的路径上攻坚克难，走出差异化的技术路线，自然未来可期。