北京
国家知识产权局信息显示，易安爱富（武汉）科技有限公司申请一项名为“一种用于正性光刻胶的水系剥离液及其制备方法”的专利，公开号CN121742145A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明涉及面板制造技术领域，具体涉及一种用于正性光刻胶的水系剥离液及其制备方法，其原料组分包括短链醇胺、带有环状烃的醇胺、非质子极性溶剂、金属腐蚀抑制剂、脂肪长链聚醚酯、咪唑类离子液体和纯水；本发明的水系剥离液组合物，使用不同结构的醇胺用作不同成分，相较于常规水系剥离液，药液相容性更好，渗入率更高，实现了功能一体化和剥离效率的显著提升；还添加了脂肪长链聚醚酯作为消泡剂，在药液循环、喷淋等过程中抑制泡沫生成，保证药液与基板表面光刻胶膜的稳定接触，避免剥离不均，降低了硅污染风险；同时添加了离子液体作为助溶剂，改善了光刻胶残留物在水中溶解度不足的缺陷，提高了药液的寿命。
天眼查资料显示，易安爱富（武汉）科技有限公司，成立于2010年，位于武汉市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本350万美元。通过天眼查大数据分析，易安爱富（武汉）科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息43条，此外企业还拥有行政许可11个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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