“采取超常规措施”突破光刻机：同时开发5种技术路线，择优汰劣

前沿导读

在我国发布的十五五规划当中，重点提到了中国科技产业的自立自强，要“采取超常规措施”，全链条推动集成电路、工业母机等重点领域关键核心技术攻关取得决定性突破。

针对“采取超常规措施”这个概念，飞腾公司副总经理郭御风先生对此解释称：

这并非意味着要违背科学规律去“大干快上”，其核心要义在于打破常规的路径依赖和体制机制障碍。过去我们处于“跟跑”阶段，目标是追赶，可以沿着别人的脚印走。但现在我们要迈向“并跑”甚至“领跑”，前方没有现成的路，就必须运用非常之法，去行非常之事。

参考资料：
如何理解“采取超常规措施”加快核心技术攻关？政协委员解答

• https://www.guancha.cn/economy/2026_03_07_809148.shtml

多路并进

郭御风先生还进一步阐释了“全链条推动”这个概念，芯片做出来了，没有配套的操作系统，芯片就没办法发挥作用，成为了孤岛。操作系统有了，没有上层的控制软件，操作系统只是一个空壳。全链条的核心主旨就是要求产业生态的协同创新高，而非单一技术的点状突破。

据《学习时报》发布的权威资料显示，集成电路是数字化时代的“粮食”和“大脑”，其整体发展需要依赖于先进材料、高端设备、工业母机、EDA工具等多种技术的深度融合。

EDA是设计芯片的自动化软件工具，硅片、光刻胶等材料是制造芯片必要的基础材料，光刻机、刻蚀机、测量机是制造芯片的核心设备，而超精密机床则是为相关制造设备加工必要的零部件。这种涉及到全局性、牵一发动全身的产业链问题，是我们解决卡脖子的核心难题。

核心技术的自主化攻关，直面的问题就是外国企业的技术专利。在制造设备领域，技术专利就如同四面密不透风的城墙，牢牢把核心技术封锁在城内。除非对方向你主动开放城门（技术授权），否则我们必须要想办法绕过这座城池。

为提升技术突破的成功率，我们选择多路并进的方法来实施“超常规措施”。

针对对明确的技术难题，公开发榜，不限团队背景“揭榜挂帅”，同时支持3——5个不同技术路线的团队并行攻关，在竞争中优选最优解。

参考资料：
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• https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=MzAwMjExNDU1Mw==&mid=2650649305&idx=1&sn=f5de84bae3e41815c038516d01734fec&chksm=83b55eca37915cd395b2ac44b2612f50759364d708459d1c16fe36168ff6954a0adf01e5fdf8&scene=27

这种同时发展多个技术项目的方法，也是西方企业在半导体领域发展壮大的原因之一。

英特尔依靠存储芯片发家致富，在继续发展存储芯片的同时还布局通用CPU产业。随后英特尔遭到了来自于日本企业低价存储芯片的冲击，其存储业务遭到重创，经济下滑严重，甚至面临倒闭的风险。

时任英特尔CEO的格鲁夫选择砍掉存储芯片项目，放弃与日本企业在该领域进行竞争，全面研发通用CPU技术。虽然英特尔失去了最初发家致富的存储器，但是通用CPU项目让英特尔在后来成为了该领域的市场霸主。

择优劣汰

再拿光刻机产业举例，如今还在研发光刻机的国家只剩下荷兰、日本、中国这三国的企业。

荷兰的ASML拥有先进光刻机的统治权，以浸润式技术和LPP—EUV技术领先全球。日本则是尼康和佳能两家光刻机企业，尼康持有ArF浸润式以及KrF干式技术光刻机，但是较ASML的设备技术落后明显。佳能持有KrF光刻机以及先进的纳米压印光刻机，其重点目标都放在了纳米压印领域。

而中国的光刻技术团队则是对多个技术方法同步进行攻坚，在多个方法中找寻一条合适的路线。

根据检索到的官方权威信息显示，哈尔滨工业大学主导DPP—EUV技术、中科院上海光机所主导与ASML一样的LPP—EUV技术、杭州璞璘科技主导与日本佳能一样的纳米压印技术、中科院研究团队正在尝试双激光束技术、清华大学正在尝试稳态微聚束技术（SSMB）。

参考资料：
哈工大两项目获黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖
工研闪报 | 国内光刻光源专利“冒尖”，LPP-EUV路线外再辟新思路 - 研究院要闻 - 武汉光电工业技术研究院
清华团队发Nature，新一代加速器光源亮相-清华大学
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这种多路并进的方法虽然技术压力较大，而且现在大多处于测试阶段，甚至还有可能会失败。但是这种择优劣汰的方法，可以最大限度提升我国突破封锁的成功率。

考虑到后续的市场发展，我国也提出了以政企单位作为“领先用户”，直接采购尚未完全成熟但具备重大战略意义的产品和服务，帮助产品快速迭代。

先把国产的东西用起来，在用的过程中找到需要优化解决的问题，然后联合设计商以及制造商共同解决问题，一点点提升国产设备的技术竞争力。