北京
国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“光刻测试图案的生成方法与计算机设备”的专利，公开号CN121613685A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种光刻测试图案的生成方法与计算机设备。其中光刻测试图案的生成方法包括：构建初始测试图案；利用初始测试图案训练去噪扩散概率模型；通过训练后的去噪扩散概率模型结合随机噪声得到生成测试图案；以及对生成测试图案进行筛选处理，得到目标测试图案。本发明的方案，能够自动化生成精简但多元的测试图案，避免过于依赖人工经验，减少测试周期，提升光刻工艺的一致性与稳定性，提高光刻的良率；对当前工艺节点的工艺设计套件规定的设计空间内进行图案探索，并扩展已知图案空间的边界，尽可能覆盖在多种设计空间内的特征，提高覆盖率并加速光刻测试图案的生成。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目49次，财产线索方面有商标信息156条，专利信息410条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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