北京
国家知识产权局信息显示，浙江泛特芯新材料有限公司申请一项名为“一种基于CVD的碳化硅涂层的制备方法”的专利，公开号CN121593031A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供一种基于CVD的碳化硅涂层的制备方法，属于碳化硅涂层技术领域。本申请通过脉冲水蒸气羟基化及双(二乙氨基)硅烷的反应，对基体进行重塑，构筑一层均匀、高活性的有机硅锚定界面层，并在其上采用低温循环化学气相沉积生长一层非晶碳化硅隔离层，这解决了传统工艺中因基底异质性导致的附着力低下和因原子迁移造成的界面污染问题；在此基础上，主涂层以梯度方式生长：先沉积纳米晶/非晶复合的柔性垫层以缓解热失配应力，再过渡并沉积出高硬度的柱状晶功能表层以提供优异的耐磨损性能；获得了兼具高结合强度、界面纯净度、高韧性与高硬度的涂层。
天眼查资料显示，浙江泛特芯新材料有限公司，成立于2024年，位于金华市，是一家以从事化学纤维制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江泛特芯新材料有限公司参与招投标项目2次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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