一份来自摩根士丹利的研究报告,揭开了中国存储芯片巨头长鑫存储冲击高端市场的雄心。
作为中国最具战略意义的存储芯片制造商,长鑫存储正试图在三星、SK海力士和美光主导的市场中,为中国实现半导体自给自足开辟道路。
01 路线图:从HBM2E到HBM3E
根据摩根士丹利的研究报告,长鑫存储计划在2026年上半年开始大规模生产HBM2E。这一进展标志着该公司在HBM领域的突破,尤其是在AI和高性能计算需求不断增长的背景下。
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预计到2025年中,长鑫存储将实现小规模量产,并逐步过渡到全面量产。
关于更先进的HBM3,韩国媒体《金融新闻》报道称,长鑫存储计划在2025年底前交付HBM3样品,并预计从2026年开始全面量产。
更长远的目标是,在2027年开发第五代HBM(HBM3E),旨在缩小与三星、SK海力士和美光等国际巨头的技术差距。
从技术代际对比来看,长鑫存储的HBM发展步伐明显晚于国际巨头。SK海力士早在2020年就已推出HBM2E,2022年推出HBM3,2024年推出HBM3E;三星的节奏类似;美光则在2021年就推出了HBM3。
相比之下,长鑫存储直到2024年才进入HBM2阶段,显示出明显的追赶态势。
02 产能规划:雄心勃勃的扩张计划
摩根士丹利报告显示,到2026年底,长鑫存储的HBM产能将达到约1万片晶圆/月,到2028年底将扩大至4万片晶圆/月。这一增长目标反映了其对AI市场需求的响应。
然而,全球HBM产能预计到2025年底将达到34万片晶圆/月,因此长鑫存储仍有充足的发展空间。
在DRAM领域,长鑫存储计划到2025年底将DDR5/LPDDR5产能提升至11万片晶圆/月,占全球DRAM产能的6%。其中,5000至1万片晶圆/月的G3产能专供兆易创新,剩余的16万至16.5万片晶圆/月用于LPDDR4x和HBM研发。
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长远来看,其产能可能进一步扩大至30万片晶圆/月以上(合肥工厂18万片晶圆/月,北京工厂12万片晶圆/月)。
03 技术挑战:无EUV光刻机的困境
长鑫存储在开发D1节点时可能面临重大挑战,因为该公司未使用极紫外(EUV)光刻技术,这可能在提高良率、减小芯片尺寸和扩大生产规模方面构成障碍。
TechInsights的分析显示,长鑫存储已经能够在1z纳米节点上制造DDR5芯片,但芯片尺寸相对较大,良率尚未得到完全验证。
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长鑫存储的目标可能是复制美光在不使用EUV光刻技术的情况下开发的1α纳米DRAM,这一策略将为其HBM3E开发提供经验。
近期,长鑫存储推出了采用16纳米节点的16Gb DDR5芯片,比其目前的18纳米第三代DRAM小约20%。相比之下,三大DRAM制造商目前生产的1a/b纳米DDR5芯片尺寸为12-14纳米。
基于2021年主流的16Gb DDR5 DRAM生产,长鑫存储目前落后约3年。不过,其G4与1z纳米DDR5相似,未来可能瞄准服务器DRAM市场。
04 合作伙伴:封装技术的关键支持
长鑫存储的先进封装合作伙伴包括通富微电、长电科技和华天科技,这些合作关系对其HBM生产至关重要。例如,通富微电在HBM的TSV(硅通孔)技术和KGSD(键合技术)方面提供支持,提升了HBM2的性能和可靠性。
这些合作伙伴的技术能力将直接影响长鑫存储HBM产品的竞争力和市场接受度。
05 市场影响:IPO计划与竞争格局
近期中国证券公司的报告显示,长鑫存储已启动IPO辅导准备工作,同时该公司在生产先进HBM产品方面取得重大进展,可能挑战行业领导者。
然而,有传言称华为Pura 80的推出因长鑫存储供应的LPDDR5内存问题而延迟,如果属实,这可能不是IPO的最佳时机。
2025年,长鑫存储的DRAM芯片产量预计将占全球总量的约14%,但由于良率问题,其实际市场份额可能降至10%。
长鑫存储计划在2026年实现HBM2E量产,2027年开发HBM3E,但其产能规划与全球巨头相比仍有较大差距。到2028年4万片晶圆/月的HBM产能,仅相当于2025年全球预计产能的约12%。
长鑫存储的HBM发展路线图展示了中国在高端存储芯片领域的雄心,但要真正撼动三星、SK海力士和美光的市场地位,仍需在技术突破、产能扩张和市场接受度方面取得更大进展。
随着AI需求的持续增长,全球HBM市场的竞争将更加激烈,长鑫存储能否在这场高端存储芯片的突围战中取得成功,将直接影响中国在全球半导体产业链中的地位
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