北京
国家知识产权局信息显示，金宏气体股份有限公司申请一项名为“半导体前驱体检测的并行前处理系统及方法”的专利，公开号CN121558439A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体前驱体检测的并行前处理系统及方法，其中系统包括：气氛控制装置，所述气氛控制装置包括依次连接的气源装置、多个分流管路及配置于各所述分流管路的阀；并行处理单元；后处理装置，包括连接管以及由连接管一端依次连接的冷凝回收装置、吸收装置及废气处理装置，所述连接管另一端连通气氛控制装置的排除端和/或取样瓶的排出管。本发明结构简单，具有良好的样品检测独立性，有效防止交叉污染，满足4N及以上级别前驱体检测要求。
天眼查资料显示，金宏气体股份有限公司，成立于1999年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本48197.76万人民币。通过天眼查大数据分析，金宏气体股份有限公司共对外投资了70家企业，参与招投标项目207次，财产线索方面有商标信息103条，专利信息513条，此外企业还拥有行政许可742个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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