北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“优化用于感兴趣参数数据的权重的方法以及相关联的量测设备和光刻设备”的专利，公开号CN121548780A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，公开了一种优化用于感兴趣参数数据的权重的方法。该方法包括：获得与光刻过程相关的感兴趣参数数据和参考数据，优化权重使得对所述感兴趣参数数据应用该权重改善了光刻过程在参考参数方面的性能；以及约束该优化以惩罚平均参考数据的变化。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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