北京
国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司申请一项名为“曝光系统及其安全自检方法以及光刻机”的专利，公开号CN121500695A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种曝光系统及其安全自检方法以及光刻机，方法包括：根据源光束的辐射通量生成第一状态信号；根据快门的状态生成第二状态信号，根据第一状态信号和第二状态信号确定曝光系统是否自检正常。将曝光系统中原有的只用来作为剂量控制用的照度传感器检测的辐射通量的大小作为反馈，与快门的状态一起加入到曝光系统的安全诊断中，通过快门的状态以及源光束的辐射通量的大小形成双重诊断，在二者检测结果匹配时，才确定自检通过，避免单一传感器检测结果存在误差导致故障未识别而误认为曝光系统正常，提高自检的准确率。
天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息29条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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