北京
国家知识产权局信息显示，聚灿光电科技（宿迁）有限公司申请一项名为“一种ITO薄膜多段退火工艺”的专利，公开号CN121463600A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明属于半导体光电子器件制造技术领域，公开了一种ITO薄膜多段退火工艺，包括以下步骤：步骤一：在高真空保护下，将炉内温度从室温升温至第一温度T1并进行第一保温；步骤二：将炉内温度升至更高的第二温度T2并进行第二保温，在第二保温阶段无需通入氧气；步骤三：在保持所述第二温度T2的情况下，进行第三保温，并在第三保温阶段通入氧气；步骤四：进行可控降温过程，该过程至少包括一个在所述氧气氛围下的慢速降温阶段，以及一个在惰性气体或极低氧浓度氛围下的快速降温阶段。本发明通过在不同温度阶段精确控制氧气分压和降温速率，实现对ITO薄膜结晶过程、氧空位填补和界面反应的分阶段精准调控。
天眼查资料显示，聚灿光电科技（宿迁）有限公司，成立于2017年，位于宿迁市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本300000万人民币。通过天眼查大数据分析，聚灿光电科技（宿迁）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目46次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息216条，此外企业还拥有行政许可42个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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