北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“量测靶”的专利，公开号CN121464393A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，公开了一种量测方法，包括：获得与靶的测量相关的量测数据，该靶包括至少第一层中的第一光栅和第二层中的第二光栅，其中第一光栅具有以第一起始节距开始的第一啁啾节距，并且第二光栅具有以第二起始节距开始的第二啁啾节距，第一光栅与第二光栅基本上重叠，并且第一啁啾节距与第二啁啾节距不同，以便在测量时生成至少一个感兴趣参数相关的莫尔节距。从在所述量测数据中描述的至少一个感兴趣参数相关的莫尔节距确定感兴趣参数。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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