北京
国家知识产权局信息显示，光驰科技（上海）有限公司申请一项名为“一种真空镀膜装置和镀膜均匀性修正方法”的专利，公开号CN121451134A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本发明公开了一种真空镀膜装置和镀膜均匀性修正方法。该真空镀膜装置包括真空室、第一靶材组、第二靶材组和基座；第一靶材组和第二靶材组设置在真空室内；基座绕第一轴线转动设置于真空室内，第一靶材组和第二靶材组分设于第一轴线的两侧；工件绕第二轴线转动设置于基座，第一轴线和第二轴线呈夹角设置；工件包括相邻且呈夹角设置的第一表面组和第二表面组，在与第一轴线垂直的第一平面内，以第一轴线与第一平面的交点为原点，以第一靶材组和第二靶材组的中分线为X轴建立直角坐标系，第一表面组在第一平面的投影线与X轴之间的夹角为角度α，角度α为40‑50度。通过采用上述方案，解决了难以修正工件表面的镀膜均匀性的问题。
天眼查资料显示，光驰科技（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本80000万日元。通过天眼查大数据分析，光驰科技（上海）有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目38次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息362条，此外企业还拥有行政许可49个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
