北京
国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“阵列基板及其制备方法”的专利，公开号CN121442773A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请涉及一种阵列基板及其制备方法，在刻蚀工艺中实现外围区金属走线侧壁角度大于阵列区电极图案侧壁角度的差异化控制，控制外围区金属走线与基底的第二夹角大于阵列区电极图案的第一夹角，外围区的金属走线的线距得以减小，在湿法刻蚀工艺中实现不同区域金属侧壁角度的差异化控制，从而提升外围区金属布线空间利用率以支持窄边框设计；另外，在薄膜晶体管的垂直结构中，遮光金属的侧壁角设置为小于栅极的侧壁角，以改善上层成膜时爬坡连续性，保持阵列区电极结构稳定性。
天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目685次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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