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中导光电申请探针缺陷检测方法专利,相比于现有检测算法检测结果更为准确

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国家知识产权局信息显示,武汉中导光电设备有限公司申请一项名为“探针缺陷检测方法、装置、设备及可读存储介质”的专利,公开号CN121414740A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,一种探针缺陷检测方法、装置、设备及可读存储介质,探针缺陷检测方法包括:获取待检测图像,所述待检测图像中至少包括一个探针组;使用预设图像和待检测图像进行匹配,从待检测图像中提取得到每个探针组的图像区域,所述预设图像为一个探针组的标准图像;针对每个探针组的图像区域,使用连通域非极大值抑制算法对图像区域进行检测得到每个检测框;针对每个检测框,将面积小于预设标准面积且大于预设缺陷面积的检测框检测为缺陷;计算并输出每个缺陷的几何特征、灰度特征及强度特征。通过本申请,针对每个探针组,单独使用连通域非极大值抑制算法,更为适合图像中每个探针组形态各异的情形,相比于现有检测算法检测结果更为准确。

天眼查资料显示,武汉中导光电设备有限公司,成立于2013年,位于武汉市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉中导光电设备有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目5次,专利信息75条,此外企业还拥有行政许可3个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员

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