北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“EUV辐射能量传感器”的专利，公开号CN121420242A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种用于测量来自组合辐射的EUV辐射的能量的传感器，该组合辐射包括EUV辐射和非EUV辐射，传感器（20）包括：辐射吸收器（21），其被配置为经由辐射吸收器的表面（40）吸收源自组合辐射（15）的辐射；第一反射器（30；31），其对EUV辐射具有第一反射率，第一反射器被配置为改变进入表面的组合辐射；第二反射器（30；32），其对EUV辐射具有第二反射率，第二反射器被配置为改变进入表面的组合辐射，第二反射率不同于第一反射率；温度计（26），其被配置为测量辐射吸收器的温度变化；和计算器，其被配置为基于与由第一反射器改变的组合辐射相关联的第一温度变化和与由第二反射器改变的组合辐射相关联的第二温度变化，计算EUV辐射的能量。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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