国家知识产权局信息显示,赣州江钨新型合金材料有限公司;南昌大学;北京科技大学申请一项名为“一种使用除杂剂去除再生铜熔体杂质方法及装备”的专利,公开号CN121383635A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明公开了一种使用除杂剂去除再生铜熔体杂质方法及装备,涉及再生铜除杂领域,包括杂质去除罐以及拆卸连接于杂质去除罐顶端的顶盖,所述杂质去除罐外侧固定有多个支撑架,多个支撑架顶端固定有顶部盘,所述顶部盘设置于顶盖上方,所述顶部盘顶端固定有卷绕机构,初始状态下,滤网设置于杂质去除罐内部底端,当除杂剂输入机构输入除杂剂后,促进除杂剂与熔体中的杂质充分接触和反应,使杂质形成密度较黄铜熔体轻的合金化合物,后续还可以增加聚渣剂,使杂质化合物聚集成渣并上浮至熔体表面,便于捞出,此时两个电动推杆回缩,带动滤网上升,从而将杂质捞出,整体装置结构简单,制作成本和维护成本较低。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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