北京
国家知识产权局信息显示，眉山和润新材料科技有限公司申请一项名为“一种半导体级石英坩埚低损伤清洗方法、系统、清洗液”的专利，公开号CN121339130A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体级石英坩埚低损伤清洗方法、系统、清洗液，本发明涉及半导体材料加工技术领域，包括：配置粗洗酸液，粗洗酸液由质量百分比为3.0‑3.8%的HF、0.15‑0.25%的硫脲和余下的水组成；粗洗处理：将石英坩埚浸泡于粗洗酸液中；配置精洗酸液，精洗酸液由质量百分比为0.4‑0.7%的HF、7.5‑9.5%的柠檬酸、0.35‑0.45%的烷基糖苷、0.04‑0.06%的苯并三氮唑和余下的水组成；精洗处理：将粗洗处理后的石英坩埚置于精洗酸液中并进行超声波处理。本发明在相同清洗效率下实现：石英羟基和坩埚表面金属含量降低至传统工艺的1/5和1/10以下；酸液消耗量减少，符合半导体行业绿色制造标准；降低了坩埚表面粗糙度。
天眼查资料显示，眉山和润新材料科技有限公司，成立于2023年，位于眉山市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，眉山和润新材料科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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