北京
国家知识产权局信息显示，北京顺星聚源微电子有限公司申请一项名为“一种晶圆回流方法及晶圆回流真空炉”的专利，公开号CN121358213A，申请日期为2025年4月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体芯片加工技术领域，提出了一种晶圆回流方法包括：晶圆回流真空炉依次设置第二甲酸清洗区、真空甲酸回流区、第一冷却区、第二冷却区；晶圆进入第二甲酸清洗区；晶圆进入真空甲酸回流区，设置真空甲酸回流区的温度为第二温度，设置真空甲酸回流区的回流流速为第三流速，设置真空甲酸回流区的回流比；晶圆进入第一冷却区，设置第一冷却区的温度为第三温度，设置第一冷却区的冷却速率为第一冷却速率；晶圆进入第二冷却区，设置第二冷却区的温度为第四温度，设置第二冷却区的冷却速率为第二冷却速率。晶圆回流工艺，减少了晶圆翘曲。
天眼查资料显示，北京顺星聚源微电子有限公司，成立于2020年，位于北京市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，北京顺星聚源微电子有限公司参与招投标项目2次，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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