北京
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国家知识产权局信息显示，科磊股份有限公司申请一项名为“用于校准、预测及控制EUV光刻中随机缺陷的方法”的专利，公开号CN121359083A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，接收在工件的检验区域内随机缺陷的初始发生概率。按照所述初始发生概率对所述随机缺陷的全部位置进行排序。确定累积预期缺陷计数且将所述累积预期缺陷计数正规化为总预期缺陷计数的分率。确定用于捕捉高于总随机缺陷的阈值的潜在随机缺陷的缺陷位置的数目。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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