北京
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国家知识产权局信息显示，浙江大学;杭州高烯科技有限公司申请一项名为“一种界面稳定的石墨烯基导热膜及其制备方法”的专利，公开号CN121318454A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种界面稳定的石墨烯基导热膜及其制备方法。在制备石墨烯膜时利用带有特定尺寸网纹结构的基底，一方面利于高表面能的氧化石墨烯前驱体薄膜与基体分离，一方面为后续碳化物的原位生长提供更多稳定的成核位点与互锁界面。原位生长的方法可以在石墨烯表面原位生成一层结构致密、以强化学键结合的超硬碳化物镀层，碳化物涂层能够与石墨烯形成超稳定界面，对石墨烯膜起到有效的保护作用，极大提升其抗磨损、抗冲击和耐空间环境侵蚀的能力。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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