北京
分享至
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光学测量标记”的专利，公开号CN121336153A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，一种用于成像系统的光学测量标记，包括反射区和被配置为降低由成像系统形成的光学测量标记的图像的强度的亚结构。所述亚结构能够有效地降低在使用该光学测量标记进行测量时可能发生的碳污染速率。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
