北京
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国家知识产权局信息显示，艾克斯特朗欧洲公司申请一项名为“用于沉积二维的层的方法以及CVD反应器”的专利，公开号CN121295145A，申请日期为2020年10月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于在CVD反应器的至少一个基材上沉积二维的层的方法，借助输入管路将工艺气体馈送到进气机构的气体分配室中，进气机构具有第一气体分配室和至少一个第二气体分配室，并且通过加热装置使基材达到过程温度。在第一步骤中将惰性气体或者稀释气体馈送到第一气体分配室中，并且将反应性气体馈送到第二气体分配室中，反应性气体在处理室中热解地分解，分解产物形成二维的第一层，在第二步骤中在第一层上方和/或旁边沉积第二层，其中，将惰性气体或者稀释气体馈送到第二气体分配室中并且将包含二维的第二层的元素的反应性气体馈送到第一气体分配室中，反应性气体或者气体混合物在所述处理室中分解，其中，分解产物形成二维的第二层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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