北京
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国家知识产权局信息显示，西默有限公司申请一项名为“DUV激光束光谱性质的校准测量的系统和方法”的专利，公开号CN121285774A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种测量诸如深紫外准分子激光辐射的光束的波长和/或带宽之类的一个或多个光谱性质的系统和方法，其中使用绝对参考来校准用于测量一个或多个光谱性质的仪器，该绝对参考是使用无多普勒光谱技术生成的。还公开了其中使用同位素浓缩材料的系统和方法。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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