北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“像差确定”的专利，公开号CN121263743A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，一种确定光刻设备的投影系统的像差的方法包括：照射位于投影系统的物平面中的掩模光栅，在传感器光栅处形成掩模光栅的图像，使用检测器检测所得到的干涉图案并且输出测量强度信号；使用波前拟合算法来对测量强度信号进行拟合并且获得像差的估计，该算法包括仅[0,0]级衍射束卷积对波前有贡献的假定；确定所使用的照射的光瞳，然后：计算由掩模光栅衍射的光的每个衍射级的一次谐波贡献，从而得到针对这些一次谐波贡献的强度信号；获得建模强度信号；获得清洁强度信号；以及获得投影系统的像差的改进估计。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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