北京
国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种环路热管系统、控温方法及存储介质”的专利，公开号CN121228211A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请涉及一种环路热管系统、控温方法及存储介质，该环路热管系统包括：主换热器、存储容器及制冷回路；所述主换热器包括腔体，在所述腔体内设置被制冷剂浸没的所述存储容器；所述制冷回路与所述腔体连通，所述制冷回路上设置有变速泵及次换热器；所述次换热器与外部冷媒连接，用于接收从所述主换热器流出的已热交换的制冷剂，并进行二次换热；所述变速泵用于将二次换热后的制冷剂循环回所述主换热器的腔体，以调节所述存储容器表面的温度。从而使得存储容器表面的温度均匀性更好且可以维持在稳定温度，提高气化效果。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息428条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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